PECVD

PECVD

دانشکده/پژوهشگاه: دانشکده فیزیک

آزمایشگاه: آزمایشگاه پلاسما

مدیر آزمایشگاه: دکتر مهدی مومنی

تعرفه ثابت: توافقی
وضعیت: سالم
خدمات:
کارخانه سازنده:
نام مسئول: علی سعیدی
شماره(های) تماس: 02332395270
استفاده از این تجهیز، منوط به توافق می باشد. برای استفاده از این تجهیز، هزینه کارشناسی نیز اضافه میگردد.
PECVD فرآیندی است که طی آن لایه های نازکی از مواد گوناگون در دمای پایین بر روی زیرلایه قرار می گیرد. در این روش با توجه به اثر پلاسما در کاهش انرژی فعال سازی واکنش، دمای لایه نشانی بشکل چشمگیری کاهش می یابد. پلاسما از طریق تزریق گاز واکنش دهنده بین دو الکترود موازی، یک الکترود زمین شده و یک الکترود متصل به مولد RF، تولید می شود. با اعمال ولتاژ RF، گاز تبدیل به پلاسما شده و گونه های فعال شیمیایی در دمای پایین تولید می گردند و باعث لایه نشانی فیلم های نازک بر روی زیرلایه و یا پردازش سطوح در تماس با پلاسما می شود. مزایای سیستم PECVD • دمای پایین نسبت به دستگاه CVD • پاکسازی محفظه با پلاسما و بدون نیاز به مواد شیمیایی • توانایی لایه نشانی طیف گسترده از فیلم های نازک با خصوصیات ویژه اپتیکی، الکترونیکی، سختی بالا، نفوذ ناپذیری و ... مشخصات سیستم PECVD فرکانس کاری: 56/13 مگا هرتز بیشینه توان: 500 وات فشار پایه: 10-5 mtorr حداکثر سایز زیرلایه: 5×5 cm2
تعرفه خدمات
برای استفاده از این ابزار، باید در سیستم شناسائی شوید. چنانچه نام کاربری ندارید، از این لینک برای ثبت نام استفاده نمائید. چنانچه در سیستم ثبت نام کرده اید از دکمه زیر استفاده نمائید. متقاضی سرویس